Источники линейного УФ излучения для облучения пленок и полимеризации светочувствительных клеев, компаундов и прочих полимеров.
ЦЕНА: ПО ЗАПРОСУ
Источник УФ излучения для отверждения, маски, герметика, силиконового компаунда, полиуретанового лака, эпоксидного клея.
ЦЕНА: ПО ЗАПРОСУ
Промышленные печи использующие диодные источники излучения для полимеризации эпоксидных компаундов и прочих фотополимеров.
ЦЕНА: ПО ЗАПРОСУ
Источник излучения на базе диодных УФ ламп с длинами волн 365/395/405 нм для засветки клея, герметика и компаунда. Оборудование оснащено гибкими световодами.
ЦЕНА: ПО ЗАПРОСУ
УФ лампа для отверждения различных фото-полимерных материалов: эпоксидные составы, полиуретановые, силиконовые, акриловые и многие другие.
ЦЕНА: ПО ЗАПРОСУ
Робот дозатор клея с УФ полимеризацией, дополнительно оснащенный лампой УФ излучения, для отверждения.
ЦЕНА: ПО ЗАПРОСУ
Все представленные в данном разделе УФ лампы имеют промышленное исполнение и оснащены диодными источниками излучения (365/395/405 нм – длина волны определяется при формировании заказа на изготовление). Все лампы оснащены контроллером, который позволяет настраивать интенсивность излучения и длительность экспозиции.
УФ лампы могут быть использованы для полимеризации фото чувствительных полимеров (фотополимеры):
- фоторезисты
- эпоксидные компаунды
- силиконы и силиконовые компаунды
- акриловые клея и герметики
- анаэробные герметики с дополнительной активацией от УФ облучения
- полиуретановые состав
- чернила
- паяльные и временные защитные маски
- лаки и защитные покрытия для печатных плат